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  • CP4000化學拋光機
    Chemicals typically used in prime face polishing of semiconductor wafers or electronic and optoelectronic crystals, such as Bromine Methanol or acid etches, are highly aggressive and require ......
    01

    更新日期

    2026-05-14
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  • Logitech CP3000化學拋光設備
    Logitech CP3000化學拋光設備能很好的滿足腐蝕拋光溶劑，同樣也適用于腐蝕性較弱的Chemlox拋光，如半導體晶片的背拋光。現在的電子器件對于晶片尺寸，表面平整度、平行度及厚度控制都有非常苛刻的控制要求，而CP3000化學拋光機，特別是跟Logitech的晶片處理系統配合使用作為Z后一個步驟時，能*達到這些控制標準。
    01

    更新日期

    2026-04-15
    02

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